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  • OTF-1200X-PLD多靶鐳射濺射混合霧化沉積管式爐

    OTF-1200X-PLD是一款多靶鐳射濺射混合霧化沉積管式爐↟↟│◕,此款裝置主要包括混氣裝置↟↟│◕,加熱爐↟↟│◕,基片加熱腔體▩₪、靶材濺射腔體和氣壓控制系統組成•◕。可與準分子鐳射器配合↟↟│◕,進行脈衝鐳射蒸發鍍膜↟↟│◕,而且靶材濺射腔體內可安裝3塊靶材↟↟│◕,可依次對3中不同靶材進行鐳射脈衝蒸發•◕。此款裝置特別適合製作多元化合物薄膜•◕。

    訪問次數↟•↟✘:1086    產品價格↟•↟✘:面議    廠商性質↟•↟✘:生產廠家    更新日期↟•↟✘:2021-11-15

  • OTF-1200X-80-II雙溫區管式爐

    雙溫區管式爐系列是透過CE認證的↟↟│◕,其Z高溫度可達到1200℃↟↟│◕,並可透過調節兩個溫區的控溫程式使爐管內溫場形成一溫度梯度•◕。兩個溫區分別由兩個獨立的溫控系統來控制↟↟│◕,而且都為PID30段程式化控溫•◕。此係列管式爐 可以用CVD方法來生長奈米材料和製備各種薄膜.

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  • GSL-1400X小型真空管式爐

    小型真空管式爐是一款透過CE認證的小型高溫管式爐↟↟│◕,其爐管採用的是高純氧化鋁剛玉管↟↟│◕,加熱元件為矽碳棒•◕。儀器本身帶有兩個真密封法蘭(法蘭上已安裝機械壓力錶和不鏽鋼截止閥)•◕。控制系統採用高精度可控矽移相觸發控制↟↟│◕,其控溫精度為+/-1°C↟↟│◕,控溫方式採用30段程式設定↟↟│◕,Z高溫度可達到1400℃•◕。

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  • 1100℃小型高溫高壓管式爐--OTF-1200X-HP-30A

    OTF-1200X-HP-30A是一款小型的高溫高壓管式爐↟↟│◕,其爐管法蘭上安裝有高壓電磁閥和壓力感測器↟↟│◕,所以當管內氣壓高於設定值時↟↟│◕,電磁閥會自動開啟排氣↟↟│◕,使管內氣壓達到設定值•◕。其爐管採用鎳基合金鋼管制作↟↟│◕,其尺寸為30mm O.D x 12 mm I.D x 560 mm L•◕。此款可在高壓氧環境或惰性氣體環境下對樣品進行熱處理↟↟│◕,Z高溫度可達1100℃•◕。所以特別是對於超導材料及介電材料的探索研究↟↟│◕,

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  • 雙溫區立式高溫高壓爐--OTF-1200X-VTHP

    OTF-1200X-VTHPΦ60是一款雙溫區立式高溫高壓爐↟↟│◕,爐管採用鎳基合金鋼管制作↟↟│◕,具有較高的蠕變強度和抗氧化性•◕。爐管可承受的Z高溫度為1100℃(在此溫度下可承受的壓力為5MPa).此款裝置適合用水浴法制備材料↟↟│◕,也特別適合在高壓氧環境下對樣品進行熱處理•◕。法蘭上安裝有電磁閥↟↟│◕,當爐管內壓力高於設定值時↟↟│◕,電磁發自動開啟排出氣體減小管內氣壓•◕。

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  • 24金剛石線切割機--STX-2401

    STX-2401全自動金剛石線切割機不僅可用於陶瓷▩₪、玻璃▩₪、巖樣▩₪、PCB板▩₪、隕石▩₪、海洋結核▩₪、耐火材料▩₪、生物及仿生複合材料等的常規切割↟↟│◕,也可以用於矽▩₪、白寶石▩₪、藍寶石等人工晶體的籽晶切割↟↟│◕,以及矽晶體▩₪、藍寶石晶體的開方切割•◕。用在貴重寶石▩₪、生物塑化標本的切片時↟↟│◕,不僅切縫細小↟↟│◕,而且切割片質量優良↟↟│◕,大幅度提高了材料的利用率•◕。

    訪問次數↟•↟✘:900    產品價格↟•↟✘:面議    廠商性質↟•↟✘:生產廠家    更新日期↟•↟✘:2021-11-15

  • 1200℃雙溫立式爐-OTF-1200X-4-VT-II

    OTF-1200X-4-VT-II是透過CE認證的雙溫區立式管式爐↟↟│◕,其爐管直徑可製作為100mm,適合於對樣品在真空或氣氛保護環境下進行吊燒和淬火•◕。爐體下端安裝有一移動架以方便與移動•◕。採用PID方式進行溫度調節↟↟│◕,可設定30段升降溫程式↟↟│◕,控溫精度為+/- 1 ℃.

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  • 顆粒懸浮立式管式爐--OTF-1200X-S-FB

    OTF-1200X-S-FB是一款流化床立式管式爐↟↟│◕,專門針對粉末表面沉積的CVD實驗↟↟│◕,爐管為高純石英管↟↟│◕,爐管內部嵌有一多孔石英板↟↟│◕,石英板的孔徑為5-15um.粉末可放在多孔石英板上↟↟│◕,氣體可從爐管下端通入↟↟│◕,透過多孔石英板使樣品顆粒懸浮在加熱區域↟↟│◕,進行沉積實驗•◕。

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  • 4英寸真空立式淬火爐--OTF-1200X-4-VTQ

    OTF-1200X-4-VTQ是立式可開啟真空管式淬火爐↟↟│◕,石英管直徑100mm↟↟│◕,配有一個密封的液體容器用於樣品淬火↟↟│◕,溫度從Z高1200度到冰水或油↟↟│◕,可用於研究材料相轉變和微結構效能•◕。

    訪問次數↟•↟✘:1302    產品價格↟•↟✘:面議    廠商性質↟•↟✘:生產廠家    更新日期↟•↟✘:2021-11-15

  • 小型超高溫2000°C管式爐-GSL-2000X-25

    GSL-2000X-25是一款小型的高溫管式爐↟↟│◕,其腔體內部加熱區域為25mmI.Dx150mm,溫度可以達到1900℃,加熱元件採用特殊的鎢絲加熱↟↟│◕,.此款裝置特別適合於新一代熒光材料(紅粉)和陶瓷材料的探索•◕。

    訪問次數↟•↟✘:1123    產品價格↟•↟✘:面議    廠商性質↟•↟✘:生產廠家    更新日期↟•↟✘:2021-11-15

  • 1600℃雙溫區迴轉爐--GSL-1600X-R60-II

    GSL-1600X-R60-II是一款高溫雙溫區迴轉爐•◕。此款裝置專門設計對粉體在高溫狀態下↟↟│◕,進行均勻的燒結•◕。

    訪問次數↟•↟✘:919    產品價格↟•↟✘:面議    廠商性質↟•↟✘:生產廠家    更新日期↟•↟✘:2021-11-15

  • 1200℃單溫區可傾斜旋轉爐--OTF-1200X-4-R

    OTF-1200X-4-R 是一款單溫區旋轉管式爐↟↟│◕,為煅燒無機化合物獲得較好的*性而設計•◕。特別對鋰離子電池負極材料的製備效果*↟↟│◕,可提高導電性•◕。或者應用在粉體材料上塗層↟↟│◕,如LiFePO4, LiMnNiO4等材料的研究和開發實驗室•◕。

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  • 1200°C迷你型快速加熱冷卻爐

    OTF-1200X-50-SL是一款CE認證的可滑動管式爐↟↟│◕,配置外徑50x 1000mm石英管↟↟│◕,工作溫度Z高達1200°C•◕。爐底安裝一對滑軌↟↟│◕,可滑動•◕。加熱和冷卻速率Z大可達100°C/m•◕。為取得Z快加熱↟↟│◕,可以預先加熱爐子到設定的溫度↟↟│◕,然後移動爐子到樣品位置•◕。為獲得Z快冷卻↟↟│◕,可在樣品加熱後移動爐子到另一端•◕。加熱和冷卻速率在真空或者惰性氣體環境下可以達到15°C/s↟↟│◕,是低成本快速熱處理的理想

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  • 小型1000℃RTP爐

    OTF-1200X-4-RTP 是一款精巧型快速熱處理管式爐↟↟│◕,配有4" 石英管和真空法蘭↟↟│◕, 它是專為半導體或太陽能電池基片(Z大達3“)的退火而設計↟↟│◕,採用10KW紅外燈管加熱Z快升溫速度為 50°C/秒. 30 段溫度控制↟↟│◕,精度為 +/-1°C. 計算機透過RS485口和控制軟體實時控制爐子和顯示溫度曲線 •◕。

    訪問次數↟•↟✘:832    產品價格↟•↟✘:面議    廠商性質↟•↟✘:生產廠家    更新日期↟•↟✘:2021-11-15

  • 5英寸近距離蒸發鍍膜爐(CSS)OTF-1200X-RTP-II-5

    OTF-1200X-RTP-II-5是一款快速熱處理爐↟↟│◕,其爐腔體是一直徑為11英寸的石英管•◕。此款裝置專門實際針對於熱蒸發或CSS(Close Spaced Sublimation)鍍膜實驗↟↟│◕,其鍍膜面積可達到5"x5"•◕。此款高溫爐的加熱元件是兩組紅外燈管(分別位於頂部和底部)↟↟│◕,Z大升溫速率為20ºC/s •◕。採用PID方式進行溫度調節↟↟│◕,可設定30段升降溫程式•◕。儀器面板上安裝有RS485介面↟↟│◕,

    訪問次數↟•↟✘:708    產品價格↟•↟✘:面議    廠商性質↟•↟✘:生產廠家    更新日期↟•↟✘:2021-11-15

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