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雙靶磁控濺射儀

簡要描述▩•₪:雙靶磁控濺射儀是一款帶有兩個靶頭的磁控濺射鍍膜儀│₪•·,其中一個靶頭採用直流(DC)濺射│₪•·,可濺射金屬靶材製備金屬膜│₪•·,另一個採用射頻(RF)濺射│₪•·,可濺射金屬和氧化物靶材│₪•·,製備金屬或氧化物膜.裝置上安裝有薄膜測厚儀可以實時監測薄膜的厚度╃☁·。此裝置可製作各種單層或多層薄膜│₪•·,如鐵電·₪▩₪│、導電│₪•·,合金│₪•·,半導體│₪•·,陶瓷│₪•·,介電│₪•·,光學│₪•·,氧化物和PTFE薄膜等╃☁·。而且裝置體積較小操作方便│₪•·,是一套理想的實驗工具╃☁·。

  • 產品型號▩•₪:VTC-600-2HD
  • 廠商性質▩•₪:生產廠家
  • 更新時間▩•₪:2021-11-15
  • 訪  問  量▩•₪:2515
詳細介紹

技術引數

結構

(點選圖片檢視詳細資料)

輸入電源

  • 220VAC 50/60Hz, 單相
  • 2000W  (包括泵)

濺射電源

  • 安裝有兩個濺射電源
  • 直流(DC)電源▩•₪:500W│₪•·,針對於製作金屬膜
  • 射頻(RF)電源▩•₪:600W│₪•·,可製作氧化物和金屬膜
  • 同時可選配300W的射頻電源

磁控濺射頭

  • 儀器中安裝有2個磁控濺射頭│₪•·,而且都帶有水冷夾層│₪•·,可通入冷卻水對靶材降溫
  • 其中一個濺射頭與射頻電源相連線│₪•·,主要是濺射絕緣性靶材
  • 另一個濺射頭與直流電源相連線│₪•·,主要濺射導電性靶材
  • 靶材尺寸要求▩•₪:金屬靶▩•₪:直徑為50mm,zui大厚度1.5mm
  •              陶瓷靶▩•₪:直徑為50mm,zui大厚度6mm
  • 儀器中標配一個不鏽鋼靶和氧化鋁陶瓷靶
  • 濺射頭所需冷卻水▩•₪:流速10ml/min(儀器中配有一臺流速為16ml/min的迴圈水冷機)

也可以根據自己的要求選擇2個射頻濺射頭或3個射頻濺射頭│₪•·,訂購前需於本公司銷售人員

真空腔體

  • 真空腔體▩•₪:300 mm Dia x 300 mm h│₪•·,採用不鏽鋼製作
  • 觀察視窗▩•₪:  100 mm diameter
  • 腔體開啟方式採用上頂開│₪•·,使得換靶更加容易

載樣臺

  • 載樣臺尺寸▩•₪:140mm dia.(zui大可放置4"的基底)
  • 載樣臺可以旋轉│₪•·,其速度為▩•₪:1 - 20 rpm (可調)
  • 載樣臺zui高可加熱溫度為500℃│₪•·,控溫精度為+/- 1.0 °C

氣體流量控制器

  • 儀器內部安裝有2個質量流量計
  • 量程為▩•₪:0-200sccm
  • 氣體流量設定可以在6英寸的觸控式螢幕上進行操作

真空泵系統

配有一套分子泵系統(德國製作)│₪•·,採用一鍵式操作

薄膜測厚儀

  • 一個精密的石英振動薄膜測厚儀安裝在儀器上│₪•·,可實時監測薄膜的厚度│₪•·,解析度為0.10 Å  
  • LED顯示屏顯示│₪•·,同時也輸入所製作薄膜的相關資料

外形尺寸

L1300mm× W660mm× H1200mm

重量

160 kg

質保期

一年質保期│₪•·,終生維護

 

 

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