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  • VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀

    雙靶磁控濺射儀是一款帶有兩個靶頭的磁控濺射鍍膜儀•╃☁▩₪,其中一個靶頭採用直流(DC)濺射•╃☁▩₪,可濺射金屬靶材製備金屬膜•╃☁▩₪,另一個採用射頻(RF)濺射•╃☁▩₪,可濺射金屬和氧化物靶材•╃☁▩₪,製備金屬或氧化物膜.裝置上安裝有薄膜測厚儀可以實時監測薄膜的厚度▩✘╃₪│。此裝置可製作各種單層或多層薄膜•╃☁▩₪,如鐵電•☁₪₪、導電•╃☁▩₪,合金•╃☁▩₪,半導體•╃☁▩₪,陶瓷•╃☁▩₪,介電•╃☁▩₪,光學•╃☁▩₪,氧化物和PTFE薄膜等▩✘╃₪│。而且裝置體積較小操作方便•╃☁▩₪,是一套理想的實驗工具▩✘╃₪│。

    訪問次數✘₪:2516    產品價格✘₪:面議    廠商性質✘₪:生產廠家    更新日期✘₪:2021-11-15

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