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  • VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀

    雙靶磁控濺射儀是一款帶有兩個靶頭的磁控濺射鍍膜儀✘▩││◕,其中一個靶頭採用直流(DC)濺射✘▩││◕,可濺射金屬靶材製備金屬膜✘▩││◕,另一個採用射頻(RF)濺射✘▩││◕,可濺射金屬和氧化物靶材✘▩││◕,製備金屬或氧化物膜.裝置上安裝有薄膜測厚儀可以實時監測薄膜的厚度│╃╃·│。此裝置可製作各種單層或多層薄膜✘▩││◕,如鐵電·│、導電✘▩││◕,合金✘▩││◕,半導體✘▩││◕,陶瓷✘▩││◕,介電✘▩││◕,光學✘▩││◕,氧化物和PTFE薄膜等│╃╃·│。而且裝置體積較小操作方便✘▩││◕,是一套理想的實驗工具│╃╃·│。

    訪問次數·│•✘✘:3059
    產品價格·│•✘✘:面議
    廠商性質·│•✘✘:生產廠家
    更新日期·│•✘✘:2022-10-12
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