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雙靶磁控濺射儀是一款帶有兩個靶頭的磁控濺射鍍膜儀✘▩││◕，其中一個靶頭採用直流（DC）濺射✘▩││◕，可濺射金屬靶材製備金屬膜✘▩││◕，另一個採用射頻（RF）濺射✘▩││◕，可濺射金屬和氧化物靶材✘▩││◕，製備金屬或氧化物膜.裝置上安裝有薄膜測厚儀可以實時監測薄膜的厚度│╃╃·│。此裝置可製作各種單層或多層薄膜✘▩││◕，如鐵電·│、導電✘▩││◕，合金✘▩││◕，半導體✘▩││◕，陶瓷✘▩││◕，介電✘▩││◕，光學✘▩││◕，氧化物和PTFE薄膜等│╃╃·│。而且裝置體積較小操作方便✘▩││◕，是一套理想的實驗工具│╃╃·│。
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