VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀

雙靶磁控濺射儀是一款帶有兩個靶頭的磁控濺射鍍膜儀•╃☁▩₪，其中一個靶頭採用直流（DC）濺射•╃☁▩₪，可濺射金屬靶材製備金屬膜•╃☁▩₪，另一個採用射頻（RF）濺射•╃☁▩₪，可濺射金屬和氧化物靶材•╃☁▩₪，製備金屬或氧化物膜.裝置上安裝有薄膜測厚儀可以實時監測薄膜的厚度▩✘╃₪│。此裝置可製作各種單層或多層薄膜•╃☁▩₪，如鐵電•☁₪₪、導電•╃☁▩₪，合金•╃☁▩₪，半導體•╃☁▩₪，陶瓷•╃☁▩₪，介電•╃☁▩₪，光學•╃☁▩₪，氧化物和PTFE薄膜等▩✘╃₪│。而且裝置體積較小操作方便•╃☁▩₪，是一套理想的實驗工具▩✘╃₪│。

訪問次數✘₪：2516    產品價格✘₪：面議    廠商性質✘₪：生產廠家    更新日期✘₪：2021-11-15