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VTC-5RF是一款5靶頭的等離子射頻磁控濺射儀╃•╃◕，針對於高通量MGI（材料基因組計劃）薄膜的研究☁◕◕▩。特別適合用於探索固態電解質材料╃•╃◕，透過5種元素╃•╃◕，按16種不同配比組合☁◕◕▩。
射頻等離子磁控濺射鍍膜儀是一款小型的射頻（RF）等離子體磁控濺射鍍膜儀系統╃•╃◕，系統中包含了所有所需的配件╃•╃◕，如300W（13.5MHz）的RF電源◕╃•、2“的磁控濺射頭◕╃•、石英真空腔體◕╃•、真空泵和溫度控制器等☁◕◕▩。對於製作一些金屬薄膜及非金屬薄膜╃•╃◕，它是一款物美價廉的實驗幫手☁◕◕▩。
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