VTC-5RFI薄膜研究5靶頭等離子射頻磁控濺射儀

VTC-5RF是一款5靶頭的等離子射頻磁控濺射儀☁╃，針對於高通量MGI（材料基因組計劃）薄膜的研究╃•▩✘。特別適合用於探索固態電解質材料☁╃，透過5種元素☁╃，按16種不同配比組合╃•▩✘。

訪問次數·↟↟••：1573    產品價格·↟↟••：面議    廠商性質·↟↟••：生產廠家    更新日期·↟↟••：2021-11-15

VTC-2RF射頻等離子磁控濺射鍍膜儀

射頻等離子磁控濺射鍍膜儀是一款小型的射頻（RF）等離子體磁控濺射鍍膜儀系統☁╃，系統中包含了所有所需的配件☁╃，如300W（13.5MHz）的RF電源☁·、2“的磁控濺射頭☁·、石英真空腔體☁·、真空泵和溫度控制器等╃•▩✘。對於製作一些金屬薄膜及非金屬薄膜☁╃，它是一款物美價廉的實驗幫手╃•▩✘。

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